Photolithography gebruik drie basiese prosesstappe om 'n patroon van 'n masker na 'n wafer oor te dra: bedek, ontwikkel, ontbloot. Die patroon word tydens 'n daaropvolgende proses na die wafer se oppervlaklaag oorgedra. In sommige gevalle kan die weerstandpatroon ook gebruik word om die patroon vir 'n afgesette dun film te definieer.
Wat is fotolitografie Hoe werk dit?
Photolithography is 'n patroonproses waarin 'n fotosensitiewe polimeer selektief deur 'n masker aan lig blootgestel word, wat 'n latente beeld in die polimeer laat wat dan selektief opgelos kan word om patroon te verskaf toegang tot 'n onderliggende substraat.
Waarom word fotolitografie gebruik?
Fotolitografie is een van die belangrikste en maklikste metodes van mikrovervaardiging, en word gebruik om gedetailleerde patrone in 'n materiaal te skep. In hierdie metode kan 'n vorm of patroon geëts word deur selektiewe blootstelling van 'n ligsensitiewe polimeer aan ultraviolet lig.
Waarom word UV-lig in fotolitografie gebruik?
Photolithography laat 3D-inkapseling van selle binne hidrogels toe deur die selbevattende prepolimeer onder UV-lig te kruis. 'n Fotomasker word gebruik om die verlangde patroon te verkry [88].
Wat is die fotolitografievereistes?
In die algemeen vereis 'n fotolitografieproses drie basiese materiale, ligbron, fotomasker en fotoweerstand. Fotoresist, 'n fotosensitiewe materiaal,het twee tipes, positief en negatief. Die positiewe fotoweerstand word meer oplosbaar na blootstelling aan 'n ligbron.
