In 'n ongebalanseerde Magnetron-sputtering, word die plasma ook in die substraat ingetrek, en argon-ione bombardeer ook die groeiende dun film. … Die teenwoordigheid van elektrone rondom die substraat lei tot die ionisasie van neutrale gasatome en die penetrasie van plasma in hierdie gebied.
Waarom spat 'n magnetron?
Magnetronsputtering gebruik 'n geslote magnetiese veld om elektrone vas te vang, wat die doeltreffendheid van die aanvanklike ionisasieproses verhoog en die plasma teen laer drukke skep, wat beide agtergrondgas inkorporasie in die groeiende film- en energieverliese in die gesputterde atoom deur gasbotsings.
Wat kan vir magnetronsputtering toegepas word?
5 Magnetron sputtering afsetting. Magnetronsputtering is 'n hoëspoed vakuumbedekkingstegniek wat die afsetting van baie soorte materiale, insluitend metale en keramiek, op soveel soorte substraatmateriale moontlik maak deur die gebruik van 'n spesiaal gevormde magnetiese veld toegepas op 'n diode-sputterteiken.
Wat is geslote veld ongebalanseerde magnetron sputtering?
Die Geslote Veld Ongebalanseerde Magnetron Sputter Ion Plating-stelsel, ontwikkel deur Teer Coatings Ltd, produseer geoptimaliseerde afsettingstoestande wat afsetting van digte, harde bedekkings met uitstekende adhesie toelaat. Die CFUBMSIP-reëling word gedek deur patente wat aan Teer Coatings Ltd toegestaan is.
Wat is ongebalanseerde magnetron?
Magnetrone word algemeen geklassifiseer as 'gebalanseerd' of 'ongebalanseerd'. … As die nulpunt naby die teikenoppervlak is, kan die elektrone makliker ontsnap en die magnetron is ongebalanseerd. Ongebalanseerde ontwerpe kan hoë ioonbombardement van die dun film op dieselfde tyd as afsetting produseer.
